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四氯化硅杂质分析专用系统简介

2017/7/3 13:49:30 496 0
四氯化硅为有机化合物,主要用于化学工业及军工生产。高纯SiCl_4是生产石英通信光纤的主要原料,也是国内外多年来生产电子级多晶硅的基本原料,但对四氯化硅的纯度要求较高。

  生产工艺决定了产品中的杂质成分复杂,因此需要一套行之有效的分析方法分析四氯化硅产品的纯度。对四氯化硅中的金属杂质、硅含量及其中有机杂质成分进行分析,采用傅立叶红外光谱仪定性分析了四氯化硅中有机杂质官能团,设计的一套密封取样装置有效避免了四氯化硅的水解等,提供了一种简单有效的四氯化硅分析方法。

系统介绍
  主机采用德国布鲁克最新款傅里叶红外光谱仪:德国布鲁克光谱仪器公司的TENSOR II型红外光谱仪被国内外的生产四氯化硅行业当作是一款标准的设备。它是分区密封的光学台,对四氯化钛水解气体的危害有非常好的防护作用。在仪器构造上由于采用无动态偏差的干涉仪、数字化检测器、网络化接口和自动校验等技术,使得仪器工作更稳定、定量精度更高。TENSOR II 是同类台式研究级红外光谱仪中率先采用先进的二极管激光器的谱仪。此外,TENSOR II 的红外光源增设了一个全新的电子稳压处理功能。这些创新极大延长了红外光谱仪上两个主要易损部件的使用寿命,同时降低了您的维护成本和耗时。
 
仪器特点:
仪器具有灵敏度高,所有反射镜均为镀金镜子,耐环境性能优; 仪器稳定,抗震性能优,采用90°角镜,入射光与反射光永远平行; 智能化程度高,能对仪器的各部分进行检测,同时给出测试报告;仪器内部有校验系统,对波数的精度、准确度,透光率的精度、准确度以及信噪比进行测量。
系统除红外光谱仪器外,为保证样品完全隔离空气的情况下,采取在线或离线装取样品,并在经过红外光谱仪器分析测量以后,再安全地将样品排除出去。特制的气体取样装置,带流量控制的气体池,专用四氯化硅分析测试系统等。
 
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